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『日本东京世界天才发明展』为全球最重要的发明展之一，唯一集结创新天才、发明與教育的展覽盛会，该展覽会場位于东京新宿，是日本人潮最多的定点，每日约有350万人次进出。世界天才会议及发明展，每年吸引来自全球各地的企业家、发明家、创投以及媒体等共同参與。本会获邀筹组台湾代表团参加『2013日本东京世界天才发明展』，协助我国参展者借此国際性展覽，促进国際交流，宣扬我国发明人之智慧专利创作，争取国家榮誉并增进国民外交，拓展发明新产品之海外市場，提高专利产品之行销及市場价值。
系所公告
- 标题： 2013第二十七届日本东京世界天才发明展
- 公告日期：2013-10-07
2013第二十七届日本东京世界天才发明展
『日本东京世界天才发明展』为全球最重要的发明展之一，唯一集结创新天才、发明與教育的展覽盛会，该展覽会場位于东京新宿，是日本人潮最多的定点，每日约有350万人次进出。世界天才会议及发明展，每年吸引来自全球各地的企业家、发明家、创投以及媒体等共同参與。本会获邀筹组台湾代表团参加『2013日本东京世界天才发明展』，协助我国参展者借此国際性展覽，促进国際交流，宣扬我国发明人之智慧专利创作，争取国家榮誉并增进国民外交，拓展发明新产品之海外市場，提高专利产品之行销及市場价值。
一、报名日期：即日起至102年10月15日前截止
展覽日期：102年11月12日（二）～102年11月13日（三）（共二天）
随团日期：102年11月8日（五）～102年11月14日（四）（共七天）
二、展覽地点：日本东京新宿
参展方式：参展人随团亲自参展或委讬中華创新发明學会专人代理参展，相关报名文件敬请至學会網站www.innosociety.org下载，并将应备文件E-mail至choice@mail2000.com.tw。
三、报名方式：
请将应备文件E-mail至中華创新发明學会。
地址：10595台北市松山区复兴北路1号五楼之三
电话：02-2778-2688 传真：02-2752-2129
相关报名文件请至學会網站下载www.innosociety.org
四、缴交期限: 所有文件请于102年10月15日(二)前缴交，作品影片档案可至102年10月18日(五）缴交，若无則免缴。
详細信息请见附档
详細信息请见附档
- 附件档案： 相关信息
- 参考连结：
- 张贴人：BA
- 最後修改时间：2013-10-07 PM 3:55
